Ion Impantation Technology: 16th International Conference...

Ion Impantation Technology: 16th International Conference on Ion Implantation Technology; IIT 2006 (AIP Conference Proceedings Accelerators, Beams, and Instrumentations)

Karen J. Kirkby, Russell Gwilliam, Andy Smith, David Chivers
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This is the premier world conference for the presentation of the latest advances in ion implantation, from the fundamentals of ion-solid interactions to manufacturing implant equipment. All papers were peer-reviewed. Ion implantation is used to manufacture semiconductor devices. Materials properties are changed by bombarding wafers with atoms, which are accelerated in an ion implanter.
श्रेणियाँ:
साल:
2006
संस्करण:
1
प्रकाशन:
American Inst. of Physics
भाषा:
english
पृष्ठ:
645
ISBN 10:
0735403651
ISBN 13:
9780735403659
फ़ाइल:
PDF, 31.56 MB
IPFS:
CID , CID Blake2b
english, 2006
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